特許
J-GLOBAL ID:200903003042567560

光ポンピング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-510619
公開番号(公開出願番号):特表2008-541442
出願日: 2006年05月05日
公開日(公表日): 2008年11月20日
要約:
本発明は光ポンピング装置(12)に関する。本装置(12)は、レーザイオンがドーピングされた活性材料ベースで形成された所定の体積を有する少なくとも一つの薄い層(13)を備える。また、本装置(12)は、活性材料のレーザイオンを励起状態にできるように波長が選択され所定の寸法の断面を有する少なくとも一つのポンプビーム(19)も備える。このポンプビームは、入射角(θp)で層(13)の入射ポイント(47)に入射し、層(13)内に少なくとも一つの光学利得領域(20)を形成する。この領域(20)は層(13)の体積未満の体積と層(13)内での位置とを有するが、その体積及び位置は、入射ポイント(47)、ポンプビーム(19)の断面の寸法及び入射角(θp)によって調節可能である。
請求項(抜粋):
レーザイオンがドーピングされた活性材料ベースで形成され所定の体積を有する少なくとも一つの薄い層(13)を備え、また、前記活性材料の前記レーザイオンを励起状態にできるように波長が選択されまた所定の寸法の断面を有する少なくとも一つのポンプビーム(19)も備えた光ポンピング装置(12)にであり、前記ポンプビームは、所定の入射角(θp)で前記層(13)の入射ポイント(47)に入射し、前記層(13)内に少なくとも一つの光学利得領域(20)を形成し、前記光学利得領域(20)は、前記入射ポイント(47)、前記ポンプビーム(19)の断面の寸法、前記入射角(θp)によって調節可能な前記(13)内の位置及び体積を有するが、前記光学利得領域(20)の体積は前記層(13)の体積未満である光ポンピング装置(12)。
IPC (2件):
H01S 3/06 ,  H01S 3/094
FI (2件):
H01S3/06 ,  H01S3/094 S
Fターム (10件):
5F172AE01 ,  5F172AF06 ,  5F172AL07 ,  5F172AM09 ,  5F172EE13 ,  5F172EE14 ,  5F172EE15 ,  5F172EE16 ,  5F172NN00 ,  5F172NN20
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 米国特許第5485482号明細書
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る