特許

J-GLOBAL ID：200903003051882479

アセチレンジオール界面活性剤溶液及びその使用方法

発明者： ポン チャン ,  ダニエル メガン キング カージ ,  ユージーン ジョセフ カーワッキ,ジュニア ,  レスリー コックス バーバー
出願人/特許権者： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-292443
公開番号（公開出願番号）：特開2004-094241
出願日： 2003年08月12日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】 リソグラフィープロセス等のために基材表面を調整する処理溶液を提供する。【解決手段】 水性現像溶液の接触角を低下させることにより基材表面の濡れ性を改良するために用いられる1又はそれよりも多くのアセチレンジオール型界面活性剤を含有する処理溶液を提供する。この処理溶液は、レジスト被覆層の現像前に基材の表面を調整するためにも用いられる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

水性溶媒、非水性溶媒及びそれらの組み合わせからなる群より選択される溶媒と、下記の式(I)又は(II)の少なくとも1種の界面活性剤約10ppm〜約10,000ppmとを含有する処理溶液を、基材に接触させること:

IPC (4件)：

G03F7/38 ,  C11D1/72 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/38 501 ,  G03F7/38 511 ,  C11D1/72 ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 568

Fターム (19件)：

2H025AB16 ,  2H025DA35 ,  2H025EA01 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096CA01 ,  2H096CA05 ,  2H096FA05 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  4H003AC10 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DC02 ,  5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レジスト表面処理剤組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-346448   出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
• アセチレン列ジオールエチレンオキシド/プロピレンオキシド付加物および現像剤におけるその使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-401767   出願人：エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
• 処理液組成物およびそれを用いた着色画像の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-102987   出願人：富士写真フイルム株式会社