特許
J-GLOBAL ID：200903076984611201
アセチレン列ジオールエチレンオキシド/プロピレンオキシド付加物および現像剤におけるその使用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-401767
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215690
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、平衡および動的表面張力を低下させる水性組成物、とくに塗料、インク、貯蔵溶液および農業用組成物を提供する。【解決手段】 構造【化1】(ここでrおよびtは1もしくは2、(n+m)は1〜30そして(p+q)は1〜30である)で表わされるアセチレン列ジオールエチレンオキシド/プロピレンオキシド付加物を、表面張力を低下させる量で配合してなる。フォトレジスト現像剤/エレクトロニクス洗浄用組成物における界面活性剤としてのこのような付加物使用は特に有利である。さらに、トリアルキルアミンもしくはルイス酸の存在下にアセチレン列ジオールをEOおよび/またはPOと反応させることにより、アセチレン列ジオールのランダムおよびブロックEO/PO付加物を製造する方法も開示される。
請求項（抜粋）：
界面活性剤として、一般式:【化1】(ここでrおよびtは1もしくは2、(n+m)は1〜30、および(p+q)は1〜30であり、そしてエチレンオキシド単位(nおよびm)およびプロピレンオキシド単位(pおよびq)はブロックもしくはランダム状態に分布されている。)で表わされるアセチレン列ジオールエチレンオキシド/プロピレンオキシド付加物を含む水性フォトレジスト現像剤組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 504
, G03F 7/32
, H01L 21/027
G03F 7/004 504
, G03F 7/32
, H01L 21/30 569 E
