特許
J-GLOBAL ID:200903003078428230

濃度ムラ検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-345405
公開番号(公開出願番号):特開2007-147547
出願日: 2005年11月30日
公開日(公表日): 2007年06月14日
要約:
【課題】基板上に形成された均一な濃度を有する周期性パターンの微小な濃度変動を検査できるようにした濃度ムラ検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板に形成されたパターンの濃度ムラを検査する装置であって、第1の撮像手段11と第1の照明手段21とからなる少なくとも一つの第1検査手段10と、第2の撮像手段12と第2の照明手段22とからなる少なくとも一つの第2検査手段20と、画像処理手段30と、判定手段40と、制御手段50とを有し、前記第1の撮像手段11に対する第1の照明手段21との照明角度αと、前記第2の撮像手段12に対する第2の照明手段22との照明角度βとを有しており、少なくとも照明角度γと前記照明角度θとのいずれかが38°〜52°の範囲に設定されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に形成されたパターンの濃度ムラを検査する装置であって、第1の撮像手段(11)と第1の照明手段(21)とからなる少なくとも一つの第1検査手段(10)と、第2の撮像手段(12)と第2の照明手段(22)とからなる少なくとも一つの第2検査手段(20)と、画像処理手段(30)と、判定手段(40)と、制御手段(50)とを有し、前記第1の撮像手段(11)に対する第1の照明手段(21)の照明角度(α)と、前記第2の撮像手段(12)に対する第2の照明手段(22)の照明角度(β)とが、それぞれ異なった角度に設定してあることを特徴とする濃度ムラ検査装置。
IPC (1件):
G01N 21/956
FI (1件):
G01N21/956 A
Fターム (10件):
2G051AA51 ,  2G051AB20 ,  2G051BA01 ,  2G051BB01 ,  2G051BB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051DA06 ,  2G051EA16 ,  2G051EA17
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る