高周波インダクタの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大田優
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-145258
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316080
出願日： 1995年05月19日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】精度のよい導体パターンを形成して公差の小さいインダクタを得るとともに、導体膜厚を大きくしてQを向上させる。【構成】感光性導体ペーストを用いて導体膜を形成し、露光、現像によって所定のスパイラル導体パターンを形成する。スパイラル導体パターンの中央の端部は絶縁層を介して端子に接続される導体パターンと接続される。

請求項（抜粋）：

絶縁基板上に導体パターンをスパイラル状に形成する高周波インダクタの製造方法において、感光性導体ペーストを用いて導体パターンを形成し、導体パターンの端部をそれぞれ端子電極に接続することを特徴とする高周波インダクタの製造方法。

IPC (2件)：

H01F 41/04 , H01F 17/00

FI (2件)：

H01F 41/04 C , H01F 17/00 B

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平2-123706
感光性導電ペースト
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-289340 出願人：田中貴金属工業株式会社
特開昭58-108794

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