露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-021114
公開番号（公開出願番号）：特開平7-230159
出願日： 1994年02月18日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：

【要約】【目的】所望の透過率分布を持った露光用マスクを実現する。【構成】所望の透過率分布に応じて、ドットパターンの形状をよびドット濃度の分布を演算算出し、出力を段階的もしくは連続的に変化させ得る光源装置10,22からの光束によりドットパターンの光書込みを行う出力可変書込み装置の出力を、演算算出されたドットパターンの形状およびドット濃度に応じて変化させつつ感光媒体30に書込みを行い、ドットパターンを書き込まれた感光媒体30を現像して、ドットパターンの形状とドット濃度分布とにより2次元的な所望の透過率分布を有する露光用マスクを得る。

請求項（抜粋）：

所望の2次元的な透過率分布を有する露光用マスクを製造する方法であって、所望の透過率分布に応じて、ドットパターンの形状およびドット濃度の分布を演算算出し、出力を段階的もしくは連続的に変化させ得る光源装置からの光束によりドットパターンの光書込みを行う出力可変書込み装置の上記出力を、上記演算算出されたドットパターンの形状およびドット濃度の分布に応じて変化させつつ感光媒体に書込みを行い、ドットパターンを書き込まれた上記感光媒体を現像して、上記ドットパターンの形状とドット濃度の分布とにより2次元的な所望の透過率分布を有する露光用マスクを得ることを特徴とする露光用マスクの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 529

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開昭54-103101
特開昭56-167144
特開平2-214375

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