特許
J-GLOBAL ID：200903003155136710

位置計測方法、位置計測装置、露光装置、及びデバイス製造方法

発明者：
中島 伸一

中島 伸一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-235156
公開番号（公開出願番号）：特開2006-053056
出願日： 2004年08月12日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
【課題】 計測精度の向上を図ることが可能な位置計測方法を提供する。【解決手段】 位置計測装置は、物体上に形成された周期パターンからなるマークを結像光学系を介して検出し、その検出結果に基づいてマークの位置情報を計測する。マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、0次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、マーク光の画像信号から、マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周波数成分を抽出し、その抽出された周波数成分を用いてマークの位置情報を計測する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
物体上に形成された周期パターンからなるマークを結像光学系を介して検出し、該検出結果に基づいて前記マークの位置情報を計測する位置計測方法であって、 前記マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、0次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、 前記マーク光の画像信号から、前記マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周波数成分を抽出し、該抽出された周波数成分を用いて前記マークの位置情報を計測することを特徴とする位置計測方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01B11/00 H ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 525W
Fターム (35件)：
2F065AA02 ,  2F065AA06 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065CC20 ,  2F065DD04 ,  2F065DD12 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF55 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL47 ,  2F065PP02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ25 ,  5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01 ,  5F046FB13 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-111979   出願人：株式会社ニコン
  • アライメント装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-016589   出願人：株式会社ニコン

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