特許
J-GLOBAL ID:200903003168483877
集光素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-063518
公開番号(公開出願番号):特開平11-258409
出願日: 1998年03月13日
公開日(公表日): 1999年09月24日
要約:
【要約】【課題】 近接場において用いる平面開口型プローブにおいて、光の集光効果を向上させて微小開口から出射する光の強度を向上させる。【解決手段】 基板2の一方の面2cから他方の面2dに向かって開口が次第に小とされた複数の凹部2bを形成する凹部形成工程と、光透過性を有し、外部空間とは屈折率が異なる感光液を上記一方の面2c側から塗布して上記凹部2b内に感光膜を形成する感光膜形成工程と、他方の面から露光を行う露光工程と、開口部内に形成された感光膜のうち、上記露光工程で硬化されていない感光膜を除去する感光膜除去工程とを有し、凹部2b内に半球レンズ3を形成する。
請求項(抜粋):
基板の一方の面から他方の面に向かって開口が次第に小とされた複数の凹部を形成する凹部形成工程と、光透過性を有し、外部空間とは屈折率が異なる感光液を上記一方の面側から塗布して上記凹部内に感光膜を形成する感光膜形成工程と、上記他方の面から露光を行う露光工程と、上記凹部内に形成された感光膜のうち、上記露光工程で硬化されていない感光膜を除去する感光膜除去工程とを有することを特徴とする集光素子の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
引用特許:
審査官引用 (7件)
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面状光学素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-072239
出願人:東レ株式会社
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特開平3-189601
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特開昭61-188503
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超音波探触子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-016751
出願人:日立建機株式会社
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特開平4-240776
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半導体集積装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-179362
出願人:ローム株式会社
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特開平4-263086
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