マスク欠陥のプリンタビリティ解析を提供するシステム及び方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島陽一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-574111
公開番号（公開出願番号）：特表2005-500671
出願日： 2002年02月28日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

物理マスクのシミュレートされたウェーハイメージと欠陥のないレファレンスイメージとが、各々の欠陥のシビアリティスコアを提供するために用いられ、それによって顧客に対して重要な情報を提供し、マスクの使用及び修復の完全性を正確に評価可能となる。欠陥シビアリティスコアは、欠陥に対する隣接フィーチャの限界寸法の変化に関連した複数のファクタに基づいて計算される。共通のプロセスウインドウが、欠陥プリンタビリティに関する目的情報を提供するべく用いられても良い。ラインエッジ荒さ及びコンタクトコーナーの丸みのようなマスククオリティに関するその他状況もまた、物理マスクのシミュレートされたウェーハイメージを用いることで定量化されて良い。

請求項（抜粋）：

物理マスク上の欠陥のためのプリンタビリティ解析を提供する方法であって、物理マスクのシミュレートされたウエハイメージを生成する過程と、欠陥のない物理マスクに対応するリファレンスマスクのシミュレートされたウエハイメージを生成する過程と、前記物理マスクのシミュレートされたウエハイメージ上の前記欠陥に近接する第1のフィーチャーを識別する過程と、前記リファレンスマスクの前記シミュレートされたウエハイメージ上の、前記第1のフィーチャーに対応する第2のフィーチャーを識別する過程と、前記第1及び第2のフィーチャーを比較して、前記プリンタビリティ解析を提供する過程とを含む方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F1/08 , G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 502V , G03F1/08 S , G03F7/20 521

Fターム (4件)：

2H095BB30 , 2H095BD04 , 2H095BD05 , 2H095BD27

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-165353
レチクル外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-112702 出願人：日本電気株式会社
領域的イメージを測定する装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-088338 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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