成膜装置及び成膜方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173020
公開番号（公開出願番号）：特開2000-079366
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】基板上に選択的に液状膜を成膜するに際し、液状膜中への不純物の混入を抑制し、かつ成膜された液状膜の膜厚分布を均一にすることができる成膜装置及び成膜方法を提供する。【解決手段】被処理基板15の上方には、液体供給ノズル11を有する液体供給ユニット10が配置される。被処理基板15には、成膜領域と非成膜領域が設定されている。ノズル11からは、基板15に対して一定量の液体が連続的に吐出される。基板15とノズル11は、ユニット移動部16により相対的に移動される。、ノズル11の下方には、液体吸引部12a、12bが配置される。そして、ユニット移動部16によりノズル11が移動され、ノズル11から吐出された液体13が非成膜領域に供給される状態になったとき、液体吸引部12a、12bにより液体13が吸引され、基板15への供給が遮断される。

請求項（抜粋）：

成膜領域と非成膜領域とが設定された被処理基板の上方に配置され、前記被処理基板に対して一定量の液体を連続的に吐出する液体吐出部と、前記被処理基板と前記液体吐出部とを相対的に移動させる移動部と、前記液体吐出部と前記被処理基板との間に配置され、前記移動部により前記被処理基板及び前記液体吐出部の少なくとも1つが移動されて、前記液体吐出部から吐出された液体が前記非成膜領域に供給される状態になったとき、前記液体が前記非成膜領域に供給されるのを遮断する液体遮断部と、を具備することを特徴とする成膜装置。

IPC (5件)：

B05C 5/00 101 , B05C 13/00 , B05D 1/26 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 5/00 101 , B05C 13/00 , B05D 1/26 Z , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 Z

引用特許：

出願人引用 (3件)

塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-346141 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-169574 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
プラズマディスプレイパネル
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-298270 出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (3件)

塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-346141 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-169574 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
プラズマディスプレイパネル
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-298270 出願人：松下電器産業株式会社

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