特許

J-GLOBAL ID：200903003372553787

光学的に透明な水素シルセスキオキサン樹脂組成物、その製造方法及び酸化ケイ素膜

発明者： 櫛引 信男 ,  岡 富久代 ,  レスリー・アール・カーペンター・セカンド ,  道野 哲行
出願人/特許権者： ダウ コーニング アジア株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-258849
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106658
出願日： 1997年09月24日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】【課題】 紫外光領域に良好な光透過特性を有し、かつ光学素子形成に必要とされる数μm以上の厚さの膜を形成できる水素シルセスキオキサン樹脂組成物及び酸化ケイ素膜を提供する。【解決手段】 重量平均分子量が5,000〜200,000である高分子量部分と300〜10,000の範囲である低分子量部分を持ち、それぞれの部分に対応して、分子量分布曲線における複数のピークを有する水素シルセスキオキサン100重量部に対して平均粒径100nm以下のコロイダルシリカを1〜100重量部混合させてなる光学的に透明な水素シルセスキオキサン樹脂組成物。この組成物の膜を酸素含有雰囲気中、200°C以上で熱処理して酸化ケイ素膜を作る。

請求項（抜粋）：

重量平均分子量が5,000以上200,000以下の範囲である高分子量部分と300以上10,000以下の範囲である低分子量部分の複数の分子量分布を有する水素シルセスキオキサン100重量部、及び平均粒径が100nm以下であるコロイダルシリカを1重量部以上100重量部以下を含む光学的に透明な水素シルセスキオキサン樹脂組成物。

IPC (3件)：

C08L 83/05 ,  C08K 3/36 ,  C09D183/05

FI (3件)：

C08L 83/05 ,  C08K 3/36 ,  C09D183/05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水素シルセスキオキサンを用いた塗布剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-036861   出願人：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
• シルセスキオキサンポリマー組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-085521   出願人：日本ゼオン株式会社