特許

J-GLOBAL ID：200903003376414161

基板支持機構

発明者： 菊本 憲幸
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-278514
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102432
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 処理液の残留を低減することにより処理不良を防止することができる基板支持機構提供することを目的とする。【解決手段】 基板9を処理液により処理する基板処理装置において使用される基板支持機構10は、側面視においてその上端の開口部側が広く前記開口部より離隔した基端部側が狭くなるような形状を有する多数の支持溝がその長手方向に一定ピッチで形成された一対の基板支持部材1a、1bを、その長手方向に支持溝のピッチの1/2の距離だけずらせて配置した構成を有する。

請求項（抜粋）：

基板を処理液により処理する基板処理装置において使用される基板支持機構であって、側面視においてその上端の開口部側が広く前記開口部より離隔した基端部側が狭くなるような形状を有する多数の支持溝がその長手方向に一定ピッチで形成された一対の基板支持部材を、その長手方向に所定距離ずらせて配置したことを特徴とする基板支持機構。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  B08B 3/04 ,  B65G 49/04 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/304 648

FI (7件)：

H01L 21/68 N ,  B08B 3/04 B ,  B65G 49/04 D ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 E ,  B65G 49/07 L ,  H01L 21/304 648 B

Fターム (18件)：

3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC13 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA14 ,  5F031FA25 ,  5F031GA10 ,  5F031GA13 ,  5F031GA15 ,  5F031HA73 ,  5F031MA23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-308800   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置の基板保持具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-131739   出願人：大日本スクリーン製造株式会社