特許
J-GLOBAL ID：200903003519991599
パターン検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-331612
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160249
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 加工時の穴位置の変動に影響されることなくパターン検査を行う。【解決手段】 設計時のパターンデータからパターンエッジを示すエッジデータを抽出して、第1のマスタパターンとする(ステップ102)。NCデータから穴エッジを示すエッジデータを抽出して、第2のマスタパターンとする(ステップ104)。被測定パターンにおいて穴位置のずれ量を算出する(ステップ109)。穴位置のずれ量が許容範囲内であれば、ずれ量の分だけ第2のマスタパターンの位置をずらす(ステップ111)。第1のマスタパターン及び位置補正した第2のマスタパターンと被測定パターンを比較する(ステップ112、113)。
請求項（抜粋）：
被測定パターンの設計時のパターンデータからパターンエッジを示すエッジデータを抽出して、これを検査の基準となる第1のマスタパターンとし、被測定パターンの設計時のNCデータから穴エッジを示すエッジデータを抽出して、これを第2のマスタパターンとし、被測定パターンの濃淡画像からパターンエッジ及び穴エッジを示すエッジデータを抽出し、抽出した被測定パターンにおいて所定の位置決めマークと所定の穴との位置関係を求めて、これを基準量と比較することにより、穴位置のずれ量を算出し、この穴位置のずれ量が許容範囲内であれば、該ずれ量の分だけ第2のマスタパターンの位置をずらし、第1のマスタパターン及び位置補正した第2のマスタパターンと被測定パターンのエッジデータとを比較して被測定パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 F
, G06F 15/62 405 C
