特許
J-GLOBAL ID:200903003520039230
液化ガス供給システム及び供給方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加藤 朝道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-131670
公開番号(公開出願番号):特開2008-286303
出願日: 2007年05月17日
公開日(公表日): 2008年11月27日
要約:
【課題】大量の液化ガスを安定供給するため、複数の液化ガス容器内の液化ガスを最後まで均等に供給することができる、液化ガス供給システム及び供給方法を提供する。【解決手段】複数の液化ガス容器(1)と、各容器に設置した液化ガス量測定用の検出器(2)と、各容器に設置した加熱装置(3)と、各検出器からの情報を処理し、各加熱装置を制御する制御装置(7)とを含む液化ガス供給システムであって、制御装置(7)が、各検出器(2)からの情報を総合処理して得た数値を基準にして、各加熱装置(3)を制御することを特徴とする、液化ガス供給システムである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
複数の液化ガス容器と、各該容器に設置した液化ガス量測定用の検出器と、各該容器に設置した加熱装置と、各該検出器からの情報を処理し、各該加熱装置を制御する制御装置とを含む液化ガス供給システムであって、
該制御装置が、該各検出器からの情報を総合処理して得た数値を基準にして、該各加熱装置を制御することを特徴とする、液化ガス供給システム。
IPC (4件):
F17C 7/04
, F17C 9/02
, F17C 13/02
, F17C 13/04
FI (5件):
F17C7/04
, F17C9/02
, F17C13/02 302
, F17C13/02 301A
, F17C13/04 301Z
Fターム (18件):
3E172AA02
, 3E172AA03
, 3E172AA06
, 3E172AB20
, 3E172BA01
, 3E172BB04
, 3E172BB13
, 3E172BB17
, 3E172BC05
, 3E172EB02
, 3E172EB07
, 3E172EB12
, 3E172GA01
, 3E172GA22
, 3E172JA08
, 3E172KA03
, 3E172KA24
, 3E172KA28
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (9件)
-
超高純度ガスを使用点に搬送するための方法およびシステム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-261706
出願人:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
-
誘導による液化ガスのタンクの加熱のためのシステム。
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-351552
出願人:レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
-
ガス供給装置の制御方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-052661
出願人:山形日本電気株式会社
-
車両用ガス燃料供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-067774
出願人:本田技研工業株式会社
-
原料供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-014225
出願人:富士通株式会社, 富士通カンタムデバイス株式会社
-
液化ガス供給システムおよび供給方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-253658
出願人:八戸液化ガス株式会社
-
ガス供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-221710
出願人:大陽日酸株式会社
-
液化ガス供給方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-353488
出願人:キヤノン株式会社
-
ガス残量把握装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-278665
出願人:本田技研工業株式会社
全件表示
前のページに戻る