特許
J-GLOBAL ID：200903003548966200
ガスハイドレートの取り扱い装置および脱水装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉岡 宏嗣
, 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-301118
公開番号（公開出願番号）：特開2006-111746
出願日： 2004年10月15日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】 ガスハイドレートスラリの高濃度化に伴う流動性の低下を抑制すること。【解決手段】 原料ガスと水とを反応させて生成されたガスハイドレートスラリ39を濃縮ないし脱水処理して高濃度のガスハイドレート49を生成するガスハイドレートの取り扱い装置(2)において、ガスハイドレートが接する面(33,35,37)に撥水膜を形成することにより、ガスハイドレートと接触面との摩擦が小さくなり、含水率低下に伴うガスハイドレートスラリの流動性低下を抑制できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料ガスと水とを反応させて生成されたガスハイドレートスラリを濃縮ないし脱水処理して高濃度のガスハイドレートを生成するガスハイドレートの取り扱い装置において、前記ガスハイドレートが接する面に撥水膜を有してなることを特徴とするガスハイドレートの取り扱い装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C10L3/00 B
, B01D29/30 501
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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