特許
J-GLOBAL ID:200903009911607576

ガスハイドレート製造装置における脱水装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-301809
公開番号(公開出願番号):特開2006-111769
出願日: 2004年10月15日
公開日(公表日): 2006年04月27日
要約:
【課題】重力を利用した脱水装置の導出部での抵抗の増大を抑制し、脱水装置の安定した運転を実現する。【解決手段】原料ガスgと水wとを反応させてガスハイドレートnを生成し、このガスハイドレートnを脱水器12によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置である。前記脱水器12を、ガスハイドレートスラリーsを導入する導入部18と、ガスハイドレートnに付随する水wを脱水する水切り部20と、該水切り部で脱水されたガスハイドレートnを導出する導出部19とからなる縦型筒状本体21により形成する。そして、導出部19の内面に上下方向に延在する微細溝23を設ける。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置において、前記脱水器を、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、ガスハイドレートに付随する水を脱水する水切り部と、該水切り部で脱水されたガスハイドレートを導出する導出部とからなる縦型筒状本体により形成し、かつ、前記導出部の内面に上下方向に延在する微細溝を設けたことを特徴とするガスハイドレート製造装置における脱水装置。
IPC (5件):
C10L 3/10 ,  C07B 61/00 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04
FI (5件):
C10L3/00 B ,  C07B61/00 C ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04
Fターム (5件):
4H006AA04 ,  4H006AC90 ,  4H006AD33 ,  4H006BD81 ,  4H006BE60
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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