特許
J-GLOBAL ID：200903003569564829
AlまたはAl合金製真空チャンバ部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151094
公開番号（公開出願番号）：特開平11-001797
出願日： 1997年06月09日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：
【要約】【課題】 陽極酸化処理皮膜が形成されたAlまたはAl合金製真空チャンバ部材であって、耐ガス性及び耐プラズマ性が従来より一層優れた真空チャンバ部材を提供する。【解決手段】 AlまたはAl合金製の基材表面に陽極酸化皮膜が形成されてなる真空チャンバ部材であって、該陽極酸化皮膜の表面側におけるS濃度を、基材側のS濃度より高くするか、或いは、陽極酸化皮膜を表面側と基材側で成分組成の異なる2層以上から構成し、表面側の層にはSを含有させ、基材側の層にはSを含有させないように構成する。
請求項（抜粋）：
AlまたはAl合金製の基材表面に陽極酸化皮膜が形成されてなる真空チャンバ部材であって、該陽極酸化皮膜の表面側におけるS濃度が、基材側のS濃度より高いことを特徴とする耐ガス性及び耐プラズマ性に優れたAlまたはAl合金製真空チャンバ部材。
IPC (4件)：
C25D 11/04 302
, C23C 14/00
, C23C 16/44
, C23F 4/00
C25D 11/04 302
, C23C 14/00 C
, C23C 16/44 B
, C23F 4/00 A
