特許
J-GLOBAL ID：200903003595149236
フォトマスクパタンデータ作成方法およびフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-142813
公開番号（公開出願番号）：特開2001-324794
出願日： 2000年05月16日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウエハ上に目的とするパタン形状を得ることができる、フォトマスクを形成するための、元図形データを補正した補正データであるフォトマスクパタンデータの作成方法を提供する。【解決手段】 設計データの元図形データをデジタルデータとして取り込む、第1のステップと、元図形データを用いてフォトマスクを製造する際に生じる、形成パタンの元図形データからの歪み(変形)に関する情報を取り出す第2のステップと、フォトマスクを用いてウエハ上にパタンを製造する際に生じる形成パタンの歪み(変形)に関する情報を取り出す第3のステップと、元図形データに対して、第2のステップと第3のステップで得られた情報を合せ、補正する箇所と補正する量を決定する情報を得る第4のステップと、第4のステップで得られた情報を基に、設計データの元図形データに対し、補正用の補正図形を発生させて、補正パタンデータを得る第5のステップとを有する。
請求項（抜粋）：
ウエハ上に目的とするパタン形状を得るために、フォトマスクのパタンを作成するための描画を行なう露光描画装置に用いられる設計データの元図形データを補正した、補正パタンデータを、露光描画装置用図形データとして新たに生成する、フォトマスクパタンデータ作成方法であって、(a)設計データの元図形データをデジタルデータとして取り込む、第1のステップと、(b)元図形データを用いてフォトマスクを製造する際に生じる、形成パタンの元図形データからの歪み(変形)に関する情報を取り出す第2のステップと、(c)フォトマスクを用いてウエハ上にパタンを製造する際に生じる形成パタンの歪み(変形)に関する情報を取り出す第3のステップと、(d)元図形データに対して、第2のステップと第3のステップで得られた情報を合せ、補正する箇所と補正する量を決定する情報を得る第4のステップと、(e)第4のステップで得られた情報を基に、設計データの元図形データに対し、補正用の補正図形を発生させて、補正パタンデータを得る第5のステップとを有することを特徴とするフォトマスクパタンデータ作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BA02
, 2H095BB01
, 2H095BB36
