特許
J-GLOBAL ID：200903003605587172
減衰型位相シフトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-066934
公開番号（公開出願番号）：特開平7-281413
出願日： 1994年04月05日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 減衰型位相シフトマスクの光透過部の周囲に生じる強い光強度領域(サイドローブ像)の発生を防止するパターンを有する減衰型位相シフトマスクおよびその製造方法を提供することにある。【構成】 光透過部20の周囲の近傍の位相シフタ部10の所定の領域に、この領域に対応する被露光材への露光光の露光量を調整するための補助パターン30が設けられている。この補助パターン30により、サイドローブ像の光強度を打ち消すことが可能となる。
請求項（抜粋）：
フォトマスク基板の上の所定の位置に形成され、透過する露光光の位相と透過率とを制御する第1光透過部と、前記第1光透過部に周囲を取囲まれ、前記フォトマスク基板の表面が露出する第2光透過部と、を備え、前記第2光透過部の周囲の近傍の前記第1光透過部の所定の領域に、この領域に対応する被露光材への前記露光光の露光量を制御するための補助パターンを有する、減衰型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
