被膜形成装置及び被膜形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-015970
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211657
出願日： 1994年01月14日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】5〜150Torrの中圧力において被膜を形成する装置とその方法を提供する。【構成】放電空間において発生したラジカルが基板表面に達するまでの間、周辺の雰囲気の影響を受けないように放電空間を包むようにパージガスで遮蔽を施す。磁場とバイアス電圧をプラズマに作用させることにより、該ラジカルが基板表面に到達し易くなり、到達したラジカルにより基板表面において被膜形成反応を促進させる。

請求項（抜粋）：

被膜の形成されるべき基体に対して開口を有する5〜150Torrに保持可能な放電空間と該放電空間を包むように配置したパージガスノズルを有する被膜形成装置であって、前記パージガスノズルから吹き出したパージガスが実質的に前記放電空間を周辺雰囲気より遮断することを特徴とする被膜形成装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 , C23C 16/26 , C23C 16/50 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-046723
特開平2-046723
プラズマリアクター
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-322502 出願人：ラムコ株式会社

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