特許
J-GLOBAL ID：200903003655731355

欠陥検査方法

発明者：
竹原 裕輔

竹原 裕輔 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-045741
公開番号（公開出願番号）：特開2009-204388
出願日： 2008年02月27日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：
【課題】撮像条件、照明条件、周期性パターンの設計条件などの影響をできる限り排除した欠陥検査方法を提供する。【解決手段】周期性パターンを有する被検査体のスジ状ムラを検出するための欠陥検査方法であって、被検査体に光源からの照射で生じる回折光の強度分布の取得を複数の照明角度で行い、各照明角度における回折光の強度分布を検査画像として取得された被検査体への照明角度が異なる複数枚の検査画像に対し、照明角度の異なる複数の検査画像を比較し、被検査体への照射角度に応じて位置が変化するスジ状ムラと変化しないスジ状ムラとを抽出し、変化するスジ状ムラを検査の際に欠陥としない擬似欠陥とし、変化しないスジ状ムラを検査の際に欠陥として選別されたスジ状ムラに対し、それぞれの最大輝度とパターンピッチ正規化面積に基づいて欠陥規模の評価を行う欠陥検査方法を提供する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
周期性パターンを有する被検査体のスジ状ムラを検出するための欠陥検査方法であって、 被検査体に光源からの光を照射することで生じる回折光の強度分布の取得を複数の照明角度で行い、各照明角度における回折光の強度分布を検査画像として取得する撮像工程と、 前記撮像工程によって取得された被検査体への照明角度が異なる複数枚の検査画像に対し、照明角度の異なる複数の検査画像を比較し、前記被検査体への照射角度に応じて位置が変化するスジ状ムラと変化しないスジ状ムラとを抽出し、その変化するスジ状ムラを検査の際に欠陥としない擬似欠陥とし、その変化しないスジ状ムラを検査の際に欠陥として選別する擬似欠陥抽出工程と、 前記擬似欠陥抽出工程によって欠陥として選別されたスジ状ムラに対し、それぞれの最大輝度とパターンピッチ正規化面積に基づいて欠陥規模の評価を行うスジ状ムラ欠陥評価工程と、 を含むことを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01M 11/00 ,  G01B 11/28
FI (3件)：
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  G01B11/28 Z
Fターム (32件)：
2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065EE00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065HH03 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ42 ,  2F065SS03 ,  2F065TT03 ,  2G051AA56 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA20 ,  2G051BB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051CB06 ,  2G051EA12 ,  2G051EA20 ,  2G051EA23 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  2G051FA01 ,  2G086EE05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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