特許
J-GLOBAL ID：200903051199555900
周期性パターンのムラ検査装置及びムラ検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-091946
公開番号（公開出願番号）：特開2006-275609
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】高い検出精度を有する周期性パターンのムラ検査装置及びムラ検査方法を提供する。【解決手段】XYステージ上の基板の周期性パターンに対して斜め透過光の照明を行う4つの光源と、照明された周期性パターンにおける回折光を撮像する撮像手段と、基板に対して光源の各々を二次元平面視野内で個別に移動させる移動手段1と、光源から斜め透過光の照明があたるように、光源の向きを変えさせる姿勢変更手段と、基板上の撮像対象エリアを少なくとも2つのエリアに分割し、XYステージと光源との相対位置関係を調整するとともに光源の光量を調整することにより分割エリアの各々の輝度レベルを調整し、撮像手段により各分割エリアをそれぞれ撮像し撮像した分割画像データをそれぞれ取り込み、取り込んだ分割画像をつなぎ合わせて合成し、合成画像を用いてスジ状ムラを判定する際に擬似欠陥を欠陥として判定しない擬似欠陥除去手段40とを有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
矩形基板上の周期性パターンに発生するスジ状ムラを検査するための周期性パターンのムラ検査装置であって、
前記基板を実質的に水平に保持し、該基板を二次元平面視野内でX軸方向およびY軸方向にそれぞれ移動させる移動機構を備えたXYステージと、
前記XYステージ上の基板の周期性パターンに対して斜め透過光の照明を個別に行う4つの光源と、
前記XYステージを挟んで前記光源の反対側に配置され、前記光源によって斜め透過光照明された前記周期性パターンにおける回折光を撮像する撮像手段と、
前記XYステージ上の基板に対して前記光源の各々を二次元平面視野内で個別に移動させる移動手段と、
前記移動手段によって前記光源が移動されたときに、検査対象となる前記周期性パターンに対して前記光源から斜め透過光の照明があたるように、前記移動手段と連動して前記光源の向きを変えさせる姿勢変更手段と、
前記基板上の撮像対象エリアを少なくとも2つのエリアに分割し、前記XYステージと前記光源との相対位置関係を調整するとともに前記光源の光量を個別に調整することにより前記分割エリアの各々の輝度レベルを調整し、調整した輝度レベルで前記撮像手段により各分割エリアをそれぞれ撮像し、撮像した分割画像データをそれぞれ取り込み、取り込んだ分割画像を互いにつなぎ合わせて合成し、該合成画像を用いてスジ状ムラを判定する際に擬似欠陥を欠陥として判定しない擬似欠陥除去手段と、
を具備することを特徴とする周期性パターンのムラ検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 Z
, G01B11/30 A
2F065AA49
, 2F065AA61
, 2F065BB02
, 2F065CC00
, 2F065CC18
, 2F065FF04
, 2F065FF48
, 2F065FF66
, 2F065FF67
, 2F065GG13
, 2F065HH12
, 2F065HH14
, 2F065HH15
, 2F065LL22
, 2F065LL59
, 2F065MM03
, 2F065NN02
, 2F065PP12
, 2F065QQ15
, 2F065QQ18
, 2F065QQ23
, 2F065SS02
, 2F065SS13
, 2G051AA56
, 2G051AA73
, 2G051AB02
, 2G051AC22
, 2G051BA01
, 2G051BA02
, 2G051BB01
, 2G051CA04
, 2G051CB02
, 2G051CB06
, 2G051DA07
, 2G051EA12
, 2G051EB01
, 2G051ED15
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (6件)
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