特許
J-GLOBAL ID：200903003671988935

高分子固体電解質膜の製造方法

発明者：
中村 宗敦

中村 宗敦 について

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佐々井 孝介

佐々井 孝介 について

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坂口 佳充

坂口 佳充 について


出願人/特許権者：
東洋紡績株式会社

東洋紡績株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-040702
公開番号（公開出願番号）：特開2005-235466
出願日： 2004年02月18日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【課題】本発明の目的は、残留溶剤が極めて少なく、良好な品位を確保した、耐熱性に優れた高分子固体電解質膜を提供することである。【解決手段】酸性基含有ポリマーと溶剤とを含有する溶液を、1.支持体上に流延して温度150°C以下で乾燥させゲル状膜を得た後に、2.水洗工程を通過させその後、3.温度300°C以下の乾燥工程を通過することにより得られることを特徴とし、ゲル状物中の溶剤量を抑制することが可能となり、高性能な高分子固体電解質膜が製造可能となる。
請求項（抜粋）：
酸性基含有ポリマーと溶剤とを含有する溶液を、 1.支持体上に流延して温度150°C以下で乾燥させゲル状膜を得た後に、 2.水洗工程を通過させその後、 3.温度300°C以下の乾燥工程を通過することにより得られることを特徴とする高分子固体電解質膜の製造方法。
IPC (3件)：
H01B13/00 ,  C25B13/08 ,  H01M8/02
FI (3件)：
H01B13/00 Z ,  C25B13/08 301 ,  H01M8/02 P
Fターム (6件)：
5H026AA06 ,  5H026BB03 ,  5H026CX04 ,  5H026EE18 ,  5H026HH05 ,  5H026HH08
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 高分子電解質膜およびその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-142226   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
  • 米国特許出願公開第2002/0091225号明細書(第1-2頁)
審査官引用 (3件)

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