特許
J-GLOBAL ID：200903003719029064
有機半導体薄膜作製材料、有機半導体薄膜構造体および有機半導体薄膜の作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐川 慎悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276375
公開番号（公開出願番号）：特開2005-035952
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】簡単かつ低コストで低分子の有機半導体薄膜をナノスケールで作製することができるとともに、その薄膜の膜厚を調節し得る有機半導体薄膜作製材料、有機半導体薄膜構造体および有機半導体薄膜の作製方法を提供する。【解決手段】下記の一般式(I)で表される化合物とテトラシアノキノジメタン誘導体との電荷移動錯体を有機半導体薄膜作製材料の有効成分とする。〔式(I)において、R1は炭素数8〜20のアルキル鎖であり、nは0または1である。〕【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記の一般式(I)で表される化合物とテトラシアノキノジメタン誘導体との電荷移動錯体を有効成分とする有機半導体薄膜作製材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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