特許
J-GLOBAL ID：200903003762962483

微粒子を形成する方法およびこの微粒子を利用した生体物質の検査法

発明者：
安田 賢二

安田 賢二 について

, 
金 賢徹

金 賢徹 について

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竹井 弘之

竹井 弘之 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 東京医科歯科大学

国立大学法人 東京医科歯科大学 について


代理人 (4件)： 小林 浩 ,  片山 英二 ,  藤田 尚 ,  鈴木 康仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-305841
公開番号（公開出願番号）：特開2009-128297
出願日： 2007年11月27日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：
【課題】効果的な修飾微粒子の形成方法の提供。【解決手段】微粒子を単層固定させる基板表面に金を所定の厚さで蒸着する。一方、1-ethyl-3(3-dimethylaminopropyl)carbodiimidehydrochloride(通称EDC)、NaCl、あるいは、KCl等の微粒子間の静電反発力を抑制するための材料を利用した粒子固定液を作製し、これに微粒子を混合した粒子懸濁液として上記基板上に塗布することにより、金を所定の厚さで蒸着された基板表面に微粒子を単層固定させる。また、単層固定された微粒子表面に遷移金属、金属または半導体を蒸着させて修飾微粒子を形成する。基板から修飾微粒子剥離させるには、超音波洗浄装置等を利用して、基板に超音波を作用させて、剥離を促進する。修飾微粒子を生体機能分子によって修飾して生体物質の検査のための標識として利用する場合、修飾微粒子からの反射電子を利用する。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
一面に金の薄膜を形成された基板、シリコン基板、または、ガラス基板を準備する工程、 所定の直径のポリスチレン製微粒子、SiO2製微粒子、または、TiO2製微粒子、適量の純水、および、前記微粒子間の静電反発力を抑制するための材料を混合して、前記基板上で前記微粒子が高密度に分布できる濃度となるように懸濁した微粒子懸濁液を準備する工程、 前記微粒子懸濁液を前記基板の上に滴下して前記基板上に前記微粒子を高密度に分布させる工程、 基板上に吸着していない過剰量の微粒子を洗浄除去し、基板上に分布された微粒子を乾燥させる工程、 前記基板上に分布された前記微粒子に遷移金属、金属または半導体を少なくとも1層蒸着させる工程、 前記遷移金属、金属または半導体を少なくとも1層蒸着された前記微粒子に、蒸着または昇華によりSiO2を1層形成させる工程、 前記基板上に固定され、前記蒸着を済ませた前記微粒子上に、微量の純水、または、該純水にタンパク質として牛血清アルブミン(bovine serum albumin (BSA))、緩衝液としてクエン酸バッファー(standard sodium citrate (SSC))もしくはリン酸塩バッファー(phosphate buffer)、および界面活性剤として硫酸ドデシルナトリウム(sodium dodecyl sulfate (SDS))もしくはタンニン酸(tannic acid)を加えた微量の液体を滴下する工程、ならびに 前記基板の他面に超音波を作用させながら、前記微粒子が固定された前記一面側に平坦な底面を有する素材を該底面に若干加重が加わる様に載置して、該素材を任意の方向に移動させることにより前記微粒子を前記基板から剥離させる工程、 を含む、遷移金属、金属または半導体で修飾された微粒子の製作方法。
IPC (7件)：
G01N 33/543 ,  B01J 19/00 ,  G01N 33/553 ,  G01N 33/552 ,  G01N 33/53 ,  G01N 33/547 ,  C23C 14/24
FI (9件)：
G01N33/543 525U ,  B01J19/00 N ,  G01N33/553 ,  G01N33/552 ,  G01N33/543 525E ,  G01N33/53 M ,  G01N33/53 D ,  G01N33/547 ,  C23C14/24 N
Fターム (22件)：
4G075AA27 ,  4G075AA30 ,  4G075AA35 ,  4G075BB05 ,  4G075BC01 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12 ,  4K029AA11 ,  4K029AA22 ,  4K029BA02 ,  4K029BA31 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB02 ,  4K029DB03 ,  4K029DB10 ,  4K029DB12 ,  4K029DB18 ,  4K029GA00
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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