特許

J-GLOBAL ID：200903003785696578

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： ミカエル コルネリス ファン ベーク ,  レヴィヌス ピエテル バッケル ,  テオドルス フベルトゥス ヨセフス ビショップス ,  イェローン ジョンケルス ,  マルク クローン ,  ロベルトゥス アドリアヌス マリア ヴォルタース ,  アドリアヌス ヨハンネス ヘンリクス マース
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-414495
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200686
出願日： 2003年12月12日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】従来の欠点を克服するリソグラフィ投影装置の表面クリーニング方法を提供する。【解決手段】ダウンストリーム・ラジカル源10を使用して、表面8から汚染物質を除去するためのラジカルのビーム7を生成する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

-パターニング手段を支持する支持構造を備え、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターン形成する働きをし、さらに、 -基板を保持する基板テーブルと、 -パターン形成したビームを基板の標的部分に投影する投影システムとを備え、 装置が、さらに、 -ガス供給源に接続され、ラジカルのビームを提供するダウンストリーム・ラジカル源と、 -クリーニングする表面に放射線の前記ビームを配向する手段とを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (2件)：

H01L21/30 503G ,  H01L21/30 531A

Fターム (6件)：

5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA27 ,  5F046DA30 ,  5F046GA14 ,  5F046GA20

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-293985   出願人：東芝機械株式会社
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-071797   出願人：株式会社東芝
• EUVリソグラフィ装置の除染をする方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-375879   出願人：カール-ツァイス-シュティフトゥング・トレーディング・アズ・カール・ツァイス
• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-192455   出願人：松下電器産業株式会社
• 露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-023278   出願人：キヤノン株式会社