特許

J-GLOBAL ID：200903003865911763

オフ光軸照明装置

発明者： ベルンハルト エル ポーシェンリーダー ,  佐藤 隆 ,  東 司
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-048904
公開番号（公開出願番号）：特開平9-325501
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】【目的】 絞りエリアの寸法および形状を変化させるための新しい型式の絞りを提供する。【構成】 オフ光軸リトグラフにおいて、全ての絞りプレートを変化させる必要のない、絞りエリアの寸法および形状を変化させる新しい型式の絞り。このオフ光軸照明絞りは、リトグラフ処理における各スペックに関して絞りプレートを変化させることなく、絞りの寸法および形状を変化させることが可能である。この絞りプレートは、絞り開口の迅速な調節を可能とする簡単なシャッタ機構と適合する。

請求項（抜粋）：

半導体デバイスの製造において、デバイス基板上の光感応フィルムの光リトグラフ露光のためのオフ光軸照明装置において、光感応フィルムを露光するための光源と、金属層内にエッチされるパターンの拡大イメージを含むフォトマスクを有し、前記フォトマスクは光源と露光されるべき光感応フィルムとの間に挿入されるように構成されており、デバイス基板上の光感応フィルム内へのパターンニングのために照明されたイメージの寸法を縮小するために、フォトマスクとレジストとの間に設けられたレンズ装置と、そして光源とフォトマスクとの間に位置どられた絞りプレートを有し、前記絞りプレートは可変エリア絞りを提供するための独立的に制御可能なシャッタを持ち、各露光は特定のリトグラフステップに関して絞りを調節することにより別個に最適化(理想化)することができることを特徴とするオフ光軸照明装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-046906   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-101148
  
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-204989   出願人：三菱電機株式会社