特許
J-GLOBAL ID：200903003890954337
真空装置への高周波電力供給方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂間 暁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-005687
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211649
出願日： 1994年01月24日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 効率よく真空装置へ高周波電力を供給する真空装置への高周波電力供給方法を得る。【構成】 真空容器内に設置された、高周波電極20と、同電極の放電によって薄膜を成長させるための基板7と、同基板を加熱するヒータ11と、真空容器内にガスを供給するガス供給ボックス19を有する真空装置において、高周波電源16からマッチングボックス13を介して供給される高周波電力を、同軸ケーブル12、17、17aを用いて誘導結合型の上記高周波電極に供給する真空装置への高周波電力給電方法。
請求項（抜粋）：
真空容器内に設置された、高周波電極と、同電極の放電によって薄膜を成長させるための基板と、同基板を加熱するヒータと、真空容器内にガスを供給するガス供給ボックスとを有する真空装置において、高周波電源からマッチングボックスを介して供給される高周波電力を、同軸ケーブルを用いて誘導結合型の上記高周波電極に供給することを特徴とする真空装置への高周波電力給電方法。
IPC (7件)：
H01L 21/205
, B01J 3/00
, C23C 14/32
, H01B 11/18
, H01L 21/3065
, H05B 6/04 321
, C30B 25/02
