特許
J-GLOBAL ID：200903003944419920

基板搬送方法および基板搬送装置

発明者：
澤村 雅視

澤村 雅視 について

, 
澤田 敦史

澤田 敦史 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-300052
公開番号（公開出願番号）：特開2000-124288
出願日： 1998年10月21日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】基板表面に疎水性領域がある場合でも基板の受け渡しを良好に行う。【解決手段】第1中間搬送ロボット181の上アームUAは、ウエハWの下面を吸着することにより、ウエハWを保持している。スピンチャック22は、2段階シリンダ機構70によって昇降されるようになっている。第1段のシリンダ71のロッド71aを伸長させると、スピンチャック22の保持爪25とウエハWとが十分に接近する。その後、上アームUAのウエハWの吸着が解除される。次いで、第2段のシリンダ72のロッド72aが伸長させられ、上アームUAからスピンチャック25へのウエハWの受け渡しが達成される。【効果】ウエハWの疎水性表面上の処理液により、吸着解除後のウエハWにモーメントが与えられても、ウエハWの下面の縁部が保持爪25に当接することにより、ウエハWの姿勢変化が規制される。
請求項（抜粋）：
基板の下面を吸着保持しつつ基板を搬送する基板搬送ハンドから、基板の下面に当接して基板を保持するための基板保持手段へと基板を搬送する方法であって、基板を吸着保持した上記基板搬送ハンドを、上記基板保持手段の上方に位置するように、上記基板保持手段に対して相対的に水平移動させる水平移動工程と、この水平移動工程によって水平移動させられた上記基板搬送ハンドと上記基板保持手段とを、上下方向に関して接近させる接近工程と、この接近工程によって上記基板保持手段に接近させられた上記基板搬送ハンドの基板の吸着を解除する吸着解除工程と、この吸着解除工程で吸着解除された上記基板搬送ハンド上の基板が上記基板保持手段に受け渡されるように、上記基板搬送ハンドと上記基板保持手段とを上下方向に沿って相対的に変位させる変位工程とを含むことを特徴とする基板搬送方法。
FI (2件)：
H01L 21/68 B ,  H01L 21/68 A
Fターム (28件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA08 ,  5F031GA10 ,  5F031GA13 ,  5F031GA15 ,  5F031GA44 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA05 ,  5F031HA13 ,  5F031HA24 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031HA72 ,  5F031HA74 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031MA23 ,  5F031PA20
引用特許：
審査官引用 (3件)

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