特許
J-GLOBAL ID:200903063819282088

基板処理装置および基板搬送方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 宏志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-076686
公開番号(公開出願番号):特開平10-256345
出願日: 1997年03月13日
公開日(公表日): 1998年09月25日
要約:
【要約】【課題】 基板裏面にパーティクルを付着させることなく基板に対する一連の処理を行うことができる基板処理装置およびそれを用いた基板搬送方法を提供すること。【解決手段】 基板搬送の前後もしくは基板搬送中に洗浄機構31に移動させるか、洗浄機構31を移動させて、基板処理装置内で基板の搬送を行う搬送アーム11上の支持部材32の洗浄を行うことを特徴としている。洗浄機構31は、基板搬送に支障の無い位置に設置される。
請求項(抜粋):
基板に対して処理を行う基板処理装置であって、前記基板処理装置内で基板の搬送を行う搬送アームと、前記搬送アーム上に設けられ、基板を支持する支持部材と、前記基板処理装置内に備えられ、前記支持部材を洗浄する洗浄機構とを具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341
FI (4件):
H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 C ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 502 J
引用特許:
審査官引用 (6件)
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