特許
J-GLOBAL ID：200903003986292750

光学素子成形用型及びその製造方法並びに製造装置

発明者：
東條 弘美

東條 弘美 について

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▲ひじ▼野 雅道

▲ひじ▼野 雅道 について

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五十川 征史

五十川 征史 について


出願人/特許権者：
オリンパス株式会社

オリンパス株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393758
公開番号（公開出願番号）：特開2005-154187
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 イオン注入によって、イオン注入後に成膜される膜と成形面との密着強度を向上させるとともに、それとは異なる方法で平滑な成膜面で高密着強度を有する光学素子成形用型を提供すること。【解決手段】 光学素子成形用型の製造方法は、真空容器4内に設置された母材2の周囲に、貴金属イオンであるPtイオンを含むプラズマを発生させ、母材2にパルス電圧を印加することにより母材2の周囲のプラズマからイオンのみを引き出し、このイオンを母材2の成形面2Aに注入する第1の工程(S01)と、第1の工程(S01)後の成形面2Aに、Ptからなる膜をスパッタリング法で成膜させる第2の工程(S02)とを備えている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方法において、 真空容器内に設置された、前記光学素子成形用型の母材の周囲に、少なくとも一種の貴金属イオンを含むプラズマを発生させ、前記母材にパルス電圧を印加することにより前記母材周囲の前記プラズマからイオンのみを引き出し、このイオンを前記母材の少なくとも成形面に注入若しくは付着又は注入及び付着の双方を行う第1の工程と、 該第1の工程後の前記成形面に、少なくとも一種の貴金属からなる膜を前記第1の工程と異なる成膜方法で成膜させる第2の工程とを備えていることを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。
IPC (4件)：
C03B40/02 ,  C23C14/48 ,  C23C14/58 ,  C23C16/06
FI (4件)：
C03B40/02 ,  C23C14/48 Z ,  C23C14/58 B ,  C23C16/06
Fターム (20件)：
4G015HA01 ,  4K029AA04 ,  4K029BA02 ,  4K029BA04 ,  4K029BA05 ,  4K029BA13 ,  4K029BA16 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA10 ,  4K029DA12 ,  4K029DC37 ,  4K030BA01 ,  4K030BA17 ,  4K030CA01 ,  4K030CA03 ,  4K030CA05 ,  4K030HA04 ,  4K030LA21
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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