特許
J-GLOBAL ID：200903004059782534

露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者：
佐藤 隆一

佐藤 隆一 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-207700
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036032
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の個々の光学素子を製造する際の検査等に使用する測定波長領域とディバイス製造の際の露光波長域あるいはTTLアライメント波長領域を異ならすことによって高性能、高スループットの露光装置及びそれを用いたディバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 投影光学系の個々の光学素子に、素子製造の際の光学測定に使用する光の波長領域に対して高い反射率、ディバイス製造の際の露光光及びTTLアライメント光に対しては低い反射率の反射防止膜を施すことによって光学測定の際は十分の光量の測定光を得、ディバイス製造時には素子からの反射を低くすることにより迷光防止、高いスループットを得ること。
請求項（抜粋）：
レチクル等の原画を投影光学系を介してウエハー等の被露光物体上に投影するディバイス製造用の露光装置に於いて、前記投影光学系を構成する光学素子は製造工程に於いてはある波長領域の測定光を用いて検査等され、ディバイスの製造工程に於いては前記波長領域とは異なる波長域の光を用いて投影することを特徴とした露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
H01L 21/30 525 K ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 B
引用特許：
審査官引用 (5件)
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