特許

J-GLOBAL ID：200903004162532325

DPTプロセスで用いられるパターン分解を行うための方法、プログラムおよび装置

発明者： ソハ,ロバート ジョン
出願人/特許権者： エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-294387
公開番号（公開出願番号）：特開2008-146038
出願日： 2007年11月13日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：

【課題】ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数パターンに分解する方法。【解決手段】この方法は、(a)結像されるフィーチャ間に必要な最小のスペースを示す影響領域を規定するステップ、(b)ターゲットパターンのフィーチャに関連した頂点を選択するステップ、(c)この頂点に対して他のフィーチャのエッジが影響領域内にあるかどうか判断するステップ、および(d)他のフィーチャのエッジが影響領域内にある場合、このフィーチャを2つの多角形に分割するステップを含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数パターンに分解するための方法であって、 (a)結像されるフィーチャ間に必要な最小のスペースを示す影響領域を規定するステップ、 (b)前記ターゲットパターンのフィーチャに関連した頂点を選択するステップ、 (c)前記頂点に対して他のフィーチャのエッジが前記影響領域内にあるかどうか判断するステップ、および (d)前記他のフィーチャの前記エッジが前記影響領域内にある場合、前記フィーチャを2つの多角形に分割するステップ を含む方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F1/08 A ,  G03F1/08 B ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 514A

Fターム (8件)：

2H095BA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 幾何学的エアリアルイメージシミュレーション
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-554268   出願人：エルエスアイロジックコーポレーション
• 露光用マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-338256   出願人：株式会社東芝
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-237119   出願人：株式会社ニコン