特許
J-GLOBAL ID:200903004173152524

リフロー装置およびフラックスの除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉浦 正知
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-119452
公開番号(公開出願番号):特開2008-272793
出願日: 2007年04月27日
公開日(公表日): 2008年11月13日
要約:
【課題】ファンが収容されているケーシング内において、ファンの回転を妨げるフラックス成分の堆積を防止できるリフロー装置およびフラックスの除去方法を提供する。【解決手段】ファン51の近傍には、メインの雰囲気ガスである窒素ガスの導入口とは別に、フラックス除去用の窒素ガスを導入するための窒素導入口をファンの回転軸を支持するベースプレート53の側近に設け、窒素導入口56からフラックス成分を液化することを可能とする温度(たとえば140°C以上)に加熱した窒素ガスが導入される。これにより、ファン51の回転軸近傍でのフラックスの固化を防ぎ、フラックス成分の堆積を防止できる。【選択図】図4
請求項(抜粋):
搬送される被加熱物の搬送路に沿って複数のゾーンにリフロー炉が順次分割され、 上記リフロー炉のそれぞれが加熱源およびファンによって熱風を上記被加熱物に噴射するようになされたリフロー装置において、 上記リフロー炉のケーシングの底部に上記ファンの軸心から外周に向かって傾斜する傾斜部と、 上記ファンの近傍に設けられ、フラックスを液化することを可能にする温度のガスを導入するためのガス導入口と、 を備えること を特徴とするリフロー装置。
IPC (6件):
B23K 1/008 ,  H05K 3/34 ,  B23K 1/00 ,  F27B 9/10 ,  F27D 7/04 ,  F27D 7/02
FI (6件):
B23K1/008 C ,  H05K3/34 507J ,  B23K1/00 F ,  F27B9/10 ,  F27D7/04 ,  F27D7/02 A
Fターム (20件):
4K050AA08 ,  4K050BA17 ,  4K050CC07 ,  4K050CC09 ,  4K050CC10 ,  4K050CD16 ,  4K050CG08 ,  4K063AA05 ,  4K063AA15 ,  4K063BA12 ,  4K063CA05 ,  4K063DA05 ,  4K063DA14 ,  4K063DA24 ,  4K063DA26 ,  5E319BB01 ,  5E319CC36 ,  5E319CD21 ,  5E319CD35 ,  5E319GG07
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)
  • リフロー済基板の冷却装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-038770   出願人:株式会社タムラ製作所
  • 半田付装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-062376   出願人:株式会社アムテックス
  • 加熱炉装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-363879   出願人:株式会社タムラ製作所, 株式会社タムラエフエーシステム

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