特許
J-GLOBAL ID：200903004185495990
電子線描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-171936
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022195
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 電子線描画においては、ドリフト補正によってパターン露光の位置精度を向上させようとするとスループットが低下する。【解決手段】 ウエハ表面のレジストに電子線を照射してパターン露光を行う露光工程(第5ステップS5〜第7ステップS7)と、ウエハ表面に対する所定位置に設けられた基準パターンに電子線を照射して当該電子線のドリフト値を実測し、当該電子線のドリフトを補正する補正工程(第3ステップS3)とを繰り返し行う電子線描画方法において、露光工程(第5ステップS5〜第7ステップS7)では、この工程の前に行われた2回の補正工程(第3ステップS3)の時間間隔とこれらの2回の補正工程で実測したドリフト値とから算出したドリフト速度に基づいて電子線のドリフトを予測補正する(第7ステップS7)。これによって、電子線を基準パターンに照射せずにドリフト量を予測して補正をしながらパターン露光を行う。
請求項（抜粋）：
ウエハ表面に塗布されたレジストに電子線を照射してパターン露光を行う露光工程と、ウエハ表面に対する所定位置に設けられた基準パターンに電子線を照射して当該電子線のドリフト値を実測し、当該電子線のドリフトを補正する補正工程と、を繰り返し行う電子線描画方法において、前記露光工程では、当該露光工程の前に行われた2回の補正工程の時間間隔と当該2回の補正工程で実測した前記ドリフト値とから算出したドリフト速度に基づいて当該電子線のドリフトを補正すること、を特徴とする電子線描画方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 H
, H01L 21/30 541 S
