光触媒層の活性化方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鎌田文二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-354382
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170494
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】乾式法によって製膜した光触楳層の機能を容易な方法にて向上させる方法を提供する。【解決手段】基材上に製膜した光触媒層をイオンボンバード処理する。

請求項（抜粋）：

基材上に製膜した光触媒層をイオンボンバード処理することによる光触媒層の活性化方法。

IPC (3件)：

B01J 35/02 , B01J 21/06 , B01J 37/34

FI (3件)：

B01J 35/02 J , B01J 21/06 M , B01J 37/34

Fターム (10件)：

4G069AA08 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA04C , 4G069BA48A , 4G069BA48C , 4G069ED02 , 4G069EE07 , 4G069FA08 , 4G069FB02

引用特許：

出願人引用 (2件)

審査官引用 (2件)

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