ポジ型感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338214
公開番号（公開出願番号）：特開平11-223951
出願日： 1992年02月25日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】 (1)アルカリ可溶性樹脂、(2)感放射線性酸形成剤、(3)(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を制御する性質を有し、そして酸の存在下で分解されて(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性制御効果を低下もしくは消失する性質または(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を促進する性質を発現する化合物、および(4)含窒素塩基性化合物より構成されるポジ型感放射線性樹脂組成物。上記含窒素塩基性化合物は、例えばアンモニア、トリエチルアミン、イミダゾール、ピリジン、4,4’-ジアミノジフェニルメタンなどである。【解決手段】現像性、パターン形状、解像度、接着性、フォーカス許容性および残膜性に優れ、安定性も良好であり、特にエキシマーレーザーなどの遠紫外線以下の波長の放射線の照射にも好適に使用される感放射線性樹脂組成物を提供する。

請求項（抜粋）：

(1)アルカリ可溶性樹脂、(2)感放射線性酸形成剤、(3)(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を制御する性質を有し、そして酸の存在下で分解されて(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性制御効果を低下もしくは消失する性質または(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を促進する性質を発現する化合物(但し、t-ブチルオキシカルボナトビスフェノールAおよびt-ブチルアセトキシ-ビスフェノールAを除く、)および(4)含窒素塩基性化合物(但し、下記式(a)、(b)および(c)で表される化合物を除く)を含有することを特徴とする波長300nm以下の放射線を利用する半導体製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物。【化1】ただし、式(a)中のX1はO原子またはS原子を示す。R1〜R3は、同一であっても異なってもよく、それぞれ非置換もしくは置換複素環基、非置換もしくは置換芳香族炭化水素基、非置換もしくは置換脂肪族炭化水素基、非置換もしくは置換脂環式炭化水素基または水素原子を示す。なお、R2とR3で炭化水素環基または複素環基を形成してもよい。【化2】ただし、式(b)中のX2はO原子またはS原子を示す。R5、R6は、同一であっても異なってもよく、それぞれ非置換もしくは置換複素環基、非置換もしくは置換芳香族炭化水素基、非置換もしくは置換脂肪族炭化水素基、非置換もしくは置換脂環式炭化水素基または水素原子を示す。【化3】ただし、式(c)中のX3はO原子またはS原子を示す。R8〜R10は、同一であっても異なってもよく、それぞれ非置換もしくは置換複素環基、非置換もしくは置換芳香族炭化水素基、非置換もしくは置換脂肪族炭化水素基、非置換もしくは置換脂環式炭化水素基または水素原子を示す。なお、R9とR10で炭化水素環基または複素環基を形成してもよい。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開平3-167249
特開平3-273252
特開平2-118651

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