特許
J-GLOBAL ID:200903004343723874
薄膜の製造方法及びその装置、並びに電子装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
森 幸一
, 逢坂 宏
, 松村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-145916
公開番号(公開出願番号):特開2009-292664
出願日: 2008年06月03日
公開日(公表日): 2009年12月17日
要約:
【課題】薄膜構成材料の配向性を向上させ、薄膜の膜厚の均一性及びその制御性も向上させることのできる操作性の容易な薄膜の製造方法及びその装置、並びに電子装置の製造方法を提供すること。【解決手段】CNTと界面活性剤とを混合して、CNTが分散された分散液8を調製する第1工程と、分散液8からなる分散液膜21を保持リング25に形成する第2工程と、分散液膜21と基板17とを接触させた状態で相対的に垂直に往復スライド移動させることにより、分散液8を基板17の表面に膜状に移行させる第3工程と、基板17の表面に形成された膜状の分散液8を乾燥させることを経て、CNT薄膜を形成する第4工程とを有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
薄膜の構成材料と界面活性剤とを混合して、前記構成材料が分散された分散液を調製 する第1工程と、
前記分散液からなる分散液膜を形成する第2工程と、
前記分散液膜と支持体とを接触させた状態で相対的に移動させることにより、前記分 散液を前記支持体の表面に膜状に移行させる第3工程と、
前記支持体の表面に形成された前記膜状の分散液を乾燥させることを経て、薄膜を形 成する第4工程と
を有する、薄膜の製造方法。
IPC (9件):
C01B 31/02
, H01L 29/06
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 21/28
, H01L 21/288
, H01L 29/423
, H01L 29/49
, H01L 29/417
FI (9件):
C01B31/02 101F
, H01L29/06 601N
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 618A
, H01L21/28 301B
, H01L21/28 301Z
, H01L21/288 Z
, H01L29/58 G
, H01L29/50 M
Fターム (38件):
4G146AA12
, 4G146AB07
, 4G146AC20A
, 4G146AC20B
, 4G146AC30A
, 4G146AC30B
, 4G146AD05
, 4G146AD22
, 4G146AD23
, 4G146AD28
, 4G146CB10
, 4G146CB17
, 4G146CB29
, 4G146CB35
, 4G146CB36
, 4M104AA09
, 4M104AA10
, 4M104BB36
, 4M104CC01
, 4M104CC05
, 4M104DD51
, 4M104DD78
, 4M104EE03
, 4M104EE14
, 4M104FF02
, 4M104GG09
, 4M104GG14
, 4M104HH16
, 5F110AA01
, 5F110AA26
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110FF01
, 5F110GG01
, 5F110GG06
, 5F110GG42
, 5F110QQ16
引用特許: