特許

J-GLOBAL ID：200903086535372630

カーボンナノチューブ薄膜の製造方法、電子素子の製造方法、薄膜の製造方法、構造体の製造方法および気泡の形成方法

発明者： 藤野 敏夫 ,  黄 厚金
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 森 幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-125118
公開番号（公開出願番号）：特開2006-298715
出願日： 2005年04月22日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：

【課題】 カーボンナノチューブ薄膜を均質にしかも高い膜厚制御性で容易に形成することができるカーボンナノチューブ薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 界面活性剤を含有させたカーボンナノチューブ分散液12に空気などの気体を混入させることにより、表面にカーボンナノチューブを担持した気泡16を形成する。この気泡16を基板15上に堆積させることにより、カーボンナノチューブ薄膜を形成する。このカーボンナノチューブ薄膜を例えばFETのチャネル材料に用いる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

気泡の表面にカーボンナノチューブを担持させ、この気泡を基板上に堆積させるようにした ことを特徴とするカーボンナノチューブ薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 31/02 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (3件)：

C01B31/02 101F ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A

Fターム (19件)：

4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146AD28 ,  4G146CB17 ,  4G146CB40 ,  5C127BA09 ,  5C127BA15 ,  5C127BB07 ,  5C127CC03 ,  5C127DD13 ,  5C127DD20 ,  5F110AA26 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110GG01 ,  5F110GG25 ,  5F110GG42 ,  5F110GG57

引用特許：

出願人引用 (1件)

• カーボンナノチューブからなるLB膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-003004   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (4件)

• 吸臭性表皮材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-058494   出願人：大日本インキ化学工業株式会社, トヨタ自動車株式会社, 株式会社豊田中央研究所, 豊田紡織株式会社
• カーボンナノチューブからなるLB膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-003004   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• 微粒子分散液およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-283301   出願人：松下電器産業株式会社
• カーボンナノチューブを含むナノ粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-144197   出願人：金勇一