特許
J-GLOBAL ID：200903004345930320
リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-307832
公開番号（公開出願番号）：特開2009-141357
出願日： 2008年12月02日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：
【課題】液浸リソグラフィ装置の表面から液浸液の不要な液滴を除去する。【解決手段】不要な液浸流体の滴を特定の表面から除去する電極セットを有する液浸リソグラフィ装置が提供される。液浸流体の不要な滴は、液浸装置例えば液体バリア部材上の複数の異なる表面に形成されうる。蒸発及び/または乾燥が許容されている場合、これらの滴により、装置に無制御の熱負荷が生じたり表面にステインが生じたりといった問題が生じうる。滴が形成されそうな表面に電極セットが設けられる。電極セット内の電極に制御電圧が与えられ、表面から滴が静電的に除去される。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
液浸リソグラフィ装置であって、
少なくとも一部から流体の滴が除去されるべき表面と、
該表面上または該表面内部に形成された能動滴除去システムと、を備え、
該表面の該一部は前記装置における隣接部分に対し十分に移動され、該表面の該一部の流体の滴に作用する毛細管力は毛細管現象により該流体の滴を移動させるには不十分であり、
前記能動滴除去システムは、毛細管現象の支援がなくても該表面の該一部の流体の滴を操作することを特徴とする装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046AA22
, 5F046BA03
, 5F046CA04
, 5F046CB01
, 5F046CC01
, 5F046DA07
, 5F046DA27
, 5F046DA30
, 5F046DB14
, 5F046DC12
