特許
J-GLOBAL ID：200903033340500017

リソグラフィ装置、デバイス製造方法および制御システム

発明者：
リーンダース,マルチヌス,ヘンドリカス,アントニアス

リーンダース,マルチヌス,ヘンドリカス,アントニアス について

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ドンデルス,ソヘルド,ニコラース,ランベルタス

ドンデルス,ソヘルド,ニコラース,ランベルタス について

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ケンパー,ニコラース,ルドルフ

ケンパー,ニコラース,ルドルフ について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-343648
公開番号（公開出願番号）：特開2007-194613
出願日： 2006年12月21日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】浸液の抜き取りの際に生ずる冷却を低減することができる液浸リソグラフィ装置を提供する。【解決手段】基板ホルダWHとエッジ構造体15との間に毛細管路20が形成される。毛細管路20に沿って複数の電極21,22,23,24が配置されており、該電極は帯電すると親液性となる。該電極を使用して、液体の液滴を分離し、また、毛細管路に沿って液体を汲み出すことができる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
流れ方向に沿って液体を除去するよう配置された除去コンジットを含み、前記除去コンジットが、複数の表面を有するとともに該表面上に複数の電極を有する毛細管路を含む、液浸リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (5件)：
5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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