特許
J-GLOBAL ID：200903004358283897

高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子、その製造方法、該微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤および該トナー外添剤を用いた現像剤

発明者：
工藤 宗夫

工藤 宗夫 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-294280
公開番号（公開出願番号）：特開2007-099582
出願日： 2005年10月07日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
【課題】 高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子及びその製造方法、並びにトナーの流動性、耐ケーキング性、定着性、クリーニング性、帯電量の環境安定性等に優れる電子写真法に有用な静電荷像現像用トナー外添剤及び該トナー外添剤を含む現像剤を提供する。【解決手段】 ヒドロカルビルオキシシランを加水分解縮合して得られた親水性球状ゾルゲルシリカ微粒子を疎水化処理して得られた、疎水化度50以上、1次粒子の平均粒子径0.01〜5μmの疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子を加熱処理し、疎水化度が50未満の熱処理球状ゾルゲルシリカ微粒子を得る工程と、該熱処理球状ゾルゲルシリカ微粒子を疎水化処理する工程とを含む、疎水化度50以上、1次粒子の平均粒子径0.01〜5μmの高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子の製造方法、及びこうして得られたシリカ微粒子、該シリカ微粒子からなるトナー外添剤、該トナー外添剤を含む現像剤。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ヒドロカルビルオキシシランもしくはその部分加水分解縮合生成物またはそれらの組み合わせを加水分解および縮合することによって得られた親水性球状ゾルゲルシリカ微粒子を疎水化処理して得られた、疎水化度が50以上であり、1次粒子の平均粒子径が0.01〜5μmである疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子を、加熱処理し、疎水化度が50未満の熱処理球状ゾルゲルシリカ微粒子を得る工程と、該熱処理球状ゾルゲルシリカ微粒子を疎水化処理する工程とを含む、疎水化度が50以上であり、1次粒子の平均粒子径が0.01〜5μmである高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 33/159 ,  G03G 9/08
FI (3件)：
C01B33/159 ,  G03G9/08 375 ,  G03G9/08 371
Fターム (16件)：
2H005AA08 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005EA05 ,  2H005EA10 ,  2H005FA02 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072AA41 ,  4G072BB07 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072HH19 ,  4G072HH30 ,  4G072QQ07 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 特開昭46-5782号公報
  • 特開昭48-47345号公報
  • 特開昭48-47346号公報
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審査官引用 (1件)

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