特許
J-GLOBAL ID:200903004365866865
光触媒を用いた水素製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
阿形 明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-302157
公開番号(公開出願番号):特開2005-067973
出願日: 2003年08月26日
公開日(公表日): 2005年03月17日
要約:
【課題】 原料として、通常、埋立てや廃棄処分に付されている有機質汚泥を用い、光触媒の存在下、特に電子供与性成分を使用することなく、しかも可視光の照射により効率よく水素を製造しうる方法を提供する。【解決手段】 可溶化処理した含水有機質汚泥に、金属硫化物光触媒の存在下、光照射することにより水素を製造する。この可溶化処理を、非酸化雰囲気中、加圧下、熱水で処理することによって行うこと、含水有機質汚泥が下水汚泥又は消化汚泥であること、金属硫化物光触媒が硫化カドミウム及び硫化インジウムの中から選ばれた少なくとも1種であること、が好ましい。
請求項(抜粋):
可溶化処理した含水有機質汚泥に、金属硫化物光触媒の存在下、光照射することを特徴とする水素の製造方法。
IPC (5件):
C01B3/04
, B01J27/04
, B01J35/02
, C02F11/00
, C02F11/08
FI (5件):
C01B3/04 A
, B01J27/04 M
, B01J35/02 J
, C02F11/00 Z
, C02F11/08
Fターム (20件):
4D059AA05
, 4D059AA23
, 4D059BC01
, 4D059BK12
, 4D059BK23
, 4D059CC03
, 4D059DA70
, 4G069AA02
, 4G069AA08
, 4G069BA48A
, 4G069BB09A
, 4G069BB09B
, 4G069BC18A
, 4G069BC18B
, 4G069BC36A
, 4G069BC36B
, 4G069CB81
, 4G069CC33
, 4G069EB19
, 4G069FB08
引用特許:
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