塗布膜形成装置及びその方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-337764
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141273
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】スピンコーティング法による塗布膜の形成時において、基板の回転数の設定、再設定または補正に要する労力を軽減すること。またこれらの作業を自動化し、スループットを向上させること。【解決手段】塗布ユニットにおいて塗布液の種類は同じだが目標膜厚が異なる生産ライン用レシピと膜厚測定用レシピとを複数用意し、これらのうち塗布液の種類及び目標膜厚が対応するものについて、共通のスピンカーブにリンクさせる。そして膜厚測定用のレシピを実行し、膜厚測定データごとに回転数の補正値を算出する。各レシピの回転数設定値は、前記補正値を用いることで一括して補正することができる。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を保持したキャリアが載置されるキャリア載置部と、このキャリア載置部に載置されたキャリアから基板を受け取って搬送する搬送手段と、この搬送手段から搬送された基板を基板保持部にて水平に保持し、この基板に塗布液を供給すると共に前記基板保持部を回転させて基板の回転の遠心力により塗布液を広げて基板表面に塗布膜を形成する塗布ユニットと、前記基板表面に形成された塗布膜の膜厚を測定する膜厚測定ユニットと、前記塗布ユニットにおける塗布処理時の基板の回転数と塗布膜の膜厚との関係を示す回転数-膜厚データを格納するデータ格納部と、前記塗布ユニットにおける塗布膜の目標膜厚及び塗布処理時の基板の回転数を含む処理条件群が記載されたレシピを作成するレシピ作成部と、このレシピ作成部にて作成されたレシピにより設定された目標膜厚と、膜厚測定データと、当該レシピに割り当てられた回転数-膜厚デ-タとに基づいて、塗布膜の膜厚が目標値となるように前記回転数の設定値を補正する回転数補正部と、を備え、共通の回転数-膜厚デ-タに複数のレシピが割り当てられ、これら複数のレシピのうち、一のレシピについて回転数補正が行われると、当該複数のレシピのうちの他のレシピについても回転数補正が行われることを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (8件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 , B05D 3/00 , B05D 7/00 , G03F 7/16 , G03F 7/26 501

FI (9件)：

B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 A , B05D 3/00 F , B05D 3/00 D , B05D 7/00 H , G03F 7/16 , G03F 7/26 501 , H01L 21/30 564 C

Fターム (17件)：

2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025EA05 , 2H096AA25 , 2H096CA14 , 4D075AC64 , 4D075AC92 , 4D075DA06 , 4D075DC22 , 4D075EA45 , 4F042AA07 , 4F042BA05 , 4F042BA25 , 4F042EB00 , 5F046JA13 , 5F046JA21 , 5F046JA27

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-234417
膜厚制御方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-061520 出願人：リソテックジャパン株式会社
塗布膜形成装置及びその方法並びにパタ-ン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-110661 出願人：東京エレクトロン株式会社

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