特許
J-GLOBAL ID：200903004376773532
化学増幅型レジスト製造用重合体及びこれを含有するレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
児玉 喜博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-202427
公開番号（公開出願番号）：特開2000-103819
出願日： 1999年07月16日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 基板接着性、ドライエッチング耐性、解像性、耐熱性などに優れ、基板の種類にかかわらず優秀なレジストパターンのための共重合体及びこれを含有するレジスト組成物の提供。【解決手段】 一般式(I)で表示される共重合体。Xは次の一般式(II)、(III)、(IV)で表示される単量体を使用したものから選択されたものであり、R1〜R4は炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状又は多重環状アルキル基を示し、それぞれ独立的である。l+m+n+oは1であり、oは0.4〜0.6の値を有する。l、m、nはそれぞれ0.5以下である。
請求項（抜粋）：
次の一般式(I)で表示される共重合体。【化1】前記式において、Xは次の一般式(II)、(III)、(IV)で表示される単量体を使用したものから選択されたものであり、【化2】【化3】【化4】R1はアセチル基、t-ブチルオキシカルボニル基、シクロヘキサンカルボニル基、アダマンタンカルボニル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタンメチルカルボニル基など、炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状又は多重環状アルキル基、アルキルカルボニル基、側鎖アルキルカルボニル基、環状又は多重環状アルキルカルボニル基を示す。R2、R3、R4はメチル基、エチル基、t-ブチル基、iso-プロピル基、アダマンチル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタンメチル基など、炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状又は多重環状アルキル基を示し、それぞれ独立的である。l+m+n+oは1であり、oは0.4〜0.6の値を有する。1、m、nはそれぞれ0.5以下である。
IPC (5件)：
C08F222/06
, C08F232/08
, C08G 63/54
, C08L 35/02
, G03F 7/039 601
C08F222/06
, C08F232/08
, C08G 63/54
, C08L 35/02
, G03F 7/039 601
