特許
J-GLOBAL ID：200903004378669155

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
松浦 廣行

松浦 廣行 について

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相川 勝芳

相川 勝芳 について

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石井 勝利

石井 勝利 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-083579
公開番号（公開出願番号）：特開2007-258580
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】被処理体に対するプラズマ処理の面間均一性及び面内均一性を共に高く維持することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】被処理体Wに対して所定のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、真空引き可能になされた筒体状の処理容器14と、被処理体を複数枚保持して処理容器内へ収容する保持手段22と、処理容器の側壁に設けられてプラズマを発生するためのプラズマ室58と、プラズマ室にプラズマ用ガスを供給するためにプラズマ室に対して処理容器内を通過することなく挿脱可能に設けられたプラズマ用ガス分散ノズル部を有するプラズマ用ガス供給手段40、42と、プラズマ室にプラズマを立てるためのプラズマ形成手段60と、処理容器内とプラズマ室内との間を仕切って設けられると共に、処理容器内へ活性種を含むガスを通す活性種用ガス孔が形成された仕切板78とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理体に対してプラズマにより発生した活性種によって所定のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、 真空引き可能になされた縦型の筒体状の処理容器と、 前記被処理体を複数枚保持して前記処理容器内へ収容する保持手段と、 前記処理容器の側壁にその長さ方向に沿って設けられてプラズマを発生するためのプラズマ室と、 前記プラズマ室にプラズマ用ガスを供給するために前記プラズマ室に対して前記処理容器内を通過することなく挿脱可能に設けられたプラズマ用ガス分散ノズル部を有するプラズマ用ガス供給手段と、 前記プラズマ室にプラズマを立てるためのプラズマ形成手段と、 前記処理容器内と前記プラズマ室内との間を仕切って設けられると共に、前記処理容器内へ活性種を含むガスを通す活性種用ガス孔が形成された仕切板と、 を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/306
FI (2件)：
H01L21/31 C ,  H01L21/302 101F
Fターム (19件)：
5F004AA01 ,  5F004BA03 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB16 ,  5F004BB19 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB33 ,  5F045BB01 ,  5F045DP19 ,  5F045EE06 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EH18 ,  5F045EM10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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