特許
J-GLOBAL ID:200903004443127195

薄膜形成装置および薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 誠一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-177287
公開番号(公開出願番号):特開2009-013473
出願日: 2007年07月05日
公開日(公表日): 2009年01月22日
要約:
【課題】フィルムの両面に均一かつ高品質な薄膜を安定して形成できる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】搬送室3には成膜室5aおよび5bが連接し、それぞれ真空ポンプ9aないし9cにて減圧される。搬送室3内には巻出しドラム13から巻取りドラム31までのフィルム15の搬送系が作られている。巻出しドラム13から巻取りドラム31の間には、フィルム15を加熱する加熱手段17aないし17fと、フィルム15の片面に薄膜を形成する第1の成膜手段25aと、フィルム15の他面に薄膜を形成する第2の成膜手段25bが設けられている。巻出しドラム13で巻き出され、両面に薄膜が形成されて、巻取りドラム31で巻取られるまで、フィルム15は減圧条件化におかれ、大気に触れることは無い。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ロール状のフィルムを巻き出して搬送する搬送手段と、 前記フィルムを加熱する加熱手段と、 前記フィルムの片面に薄膜を形成する第1の成膜手段と、 前記フィルムの他面に薄膜を形成する第2の成膜手段と、 両面に薄膜が形成された前記フィルムをロール状に巻き取る巻取り手段と、 を具備することを特徴とした薄膜形成装置。
IPC (2件):
C23C 14/56 ,  C23C 16/54
FI (2件):
C23C14/56 A ,  C23C16/54
Fターム (19件):
4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA52 ,  4K029BB04 ,  4K029BC01 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC16 ,  4K029DC39 ,  4K029FA01 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4K030BA48 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030DA02 ,  4K030GA14 ,  4K030KA28 ,  4K030LA24
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
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