特許
J-GLOBAL ID:200903082202896989
成膜装置および成膜方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
米田 潤三
, 皿田 秀夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-412917
公開番号(公開出願番号):特開2005-169267
出願日: 2003年12月11日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【課題】 真空成膜と減圧下での塗工成膜を併用することにより、均一な成膜が可能である成膜装置と、所望の機能膜を安定して形成するための成膜方法を提供する。【解決手段】 成膜装置は、排気ポンプを有する少なくとも1つの真空成膜室と、排気ポンプを有する1つの塗工成膜室と、真空成膜室と塗工成膜室との間で被成膜体を減圧条件下で搬送するための搬送機構と、を少なくとも備えたものとし、また、成膜方法は、成膜の開始から完了まで被成膜体を減圧条件下に置いて、真空成膜法による成膜と減圧条件下での塗工成膜法による成膜とからなる重層成膜を被成膜体に対して行うものとする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくとも1つの真空成膜室と、該真空成膜室内を減圧するための排気ポンプと、少なくとも1つの塗工成膜室と、該塗工成膜室内を減圧するための排気ポンプと、前記真空成膜室と前記塗工成膜室との間で被成膜体を減圧条件下で搬送可能な搬送機構と、を少なくとも備えることを特徴とする成膜装置。
IPC (4件):
B05C9/12
, B05D3/12
, C23C14/56
, H01B13/00
FI (5件):
B05C9/12
, B05D3/12 A
, C23C14/56 B
, C23C14/56 G
, H01B13/00 503Z
Fターム (61件):
4D075AA02
, 4D075AA04
, 4D075AA38
, 4D075AA67
, 4D075AE03
, 4D075BB26Z
, 4D075BB42Z
, 4D075BB44Y
, 4D075BB46Z
, 4D075BB47Z
, 4D075BB49Y
, 4D075BB56Y
, 4D075BB85Y
, 4D075CA02
, 4D075CA07
, 4D075CA15
, 4D075CA22
, 4D075CA23
, 4D075CA42
, 4D075CB02
, 4D075CB04
, 4D075CB06
, 4D075CB07
, 4D075CB11
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DA20
, 4D075DA23
, 4D075DB01
, 4D075DB13
, 4D075DB31
, 4D075DC24
, 4D075DC36
, 4D075DC38
, 4D075DC43
, 4D075EA07
, 4D075EA21
, 4D075EB01
, 4D075EB22
, 4D075EB43
, 4F042AA02
, 4F042AA22
, 4F042DB01
, 4F042DB41
, 4F042DB51
, 4F042DB52
, 4K029AA02
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029AA25
, 4K029BA45
, 4K029BA50
, 4K029BC03
, 4K029BC08
, 4K029BC09
, 4K029CA06
, 4K029FA07
, 4K029GA03
, 4K029KA09
, 5G323AA03
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
-
特開平4-314349
-
薄膜製造方法および薄膜製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-007419
出願人:工業技術院長, 大日精化工業株式会社, 平賀隆, 守谷哲郎
-
特開平3-044058
-
有機薄膜EL素子の駆動回路
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-144218
出願人:日本電気株式会社
-
特開昭63-125680
-
処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-336464
出願人:東京エレクトロン株式会社
全件表示
前のページに戻る