特許
J-GLOBAL ID:200903004476162514
レーザ割断装置及び基板の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-176457
公開番号(公開出願番号):特開2009-012038
出願日: 2007年07月04日
公開日(公表日): 2009年01月22日
要約:
【課題】一回目のレーザビームの照射により被加工物の表面に亀裂を形成し、二回目のレーザビームの照射によりその亀裂に沿って被加工物を割断する場合、二回目に照射するレーザビームのパワーを抑えることができ、かつ、割断面を滑らかにすることができるレーザ割断装置を提供する。【解決手段】レーザ割断装置において、被加工物5に対してレーザビーム7aを照射するレーザ照射部2と、被加工物5に対して冷却材10を供給する冷却材供給部3と、被加工物5に対して固形の微粒子11を供給する微粒子供給部4と、を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被加工物に対してレーザビームを照射するレーザ照射部と、
前記被加工物に対して冷却材を供給する冷却材供給部と、
前記被加工物に対して固体の微粒子を供給する微粒子供給部と、
を備えることを特徴とするレーザ割断装置。
IPC (5件):
B23K 26/38
, B28D 5/00
, B23K 26/14
, B23K 26/40
, C03B 33/09
FI (5件):
B23K26/38 320
, B28D5/00 Z
, B23K26/14 Z
, B23K26/40
, C03B33/09
Fターム (13件):
3C069AA01
, 3C069BA08
, 3C069BB04
, 3C069CA11
, 3C069EA02
, 4E068AE01
, 4E068CH08
, 4E068CJ01
, 4E068CJ08
, 4E068DB13
, 4G015FA06
, 4G015FB01
, 4G015FC02
引用特許:
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