特許
J-GLOBAL ID：200903004477214160
分析装置の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-340984
公開番号（公開出願番号）：特開2003-139781
出願日： 2001年11月06日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 分析装置において、担体として使用する合成ラテックス粒子等の吸着した部分を洗浄して再生利用可能となる。【解決手段】 合成ラテックス粒子を担体として使用した分析装置における合成ラテックス粒子等を洗浄する分析装置における洗浄方法において、オキシエチレンの付加モル数が2ないし5モルのポリオキシエチレンアルキルエーテルと、少なくとも付加付加モル数が7ないし9モル、あるいは10ないし15モルのポリオキシエチレンアルキルエーテルのいずれか一方との混合物を含有した洗浄剤を使用して接液部分に付着した物質を溶解除去した後に水洗することを分析装置の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
分析装置の洗浄方法において、オキシエチレンの付加モル数が2ないし5モルのポリオキシエチレンアルキルエーテルと、少なくとも付加付加モル数が7ないし9モル、あるいは10ないし15モルのポリオキシエチレンアルキルエーテルのいずれか一方との混合物を含有した洗浄剤を使用して接液部分に付着した物質を溶解除去した後に水洗することを特徴とする分析装置の洗浄方法。
IPC (3件)：
G01N 35/02
, C11D 1/72
, G01N 33/48
G01N 35/02 E
, C11D 1/72
, G01N 33/48 E
2G045AA01
, 2G045AA15
, 2G045FB03
, 2G045HA02
, 2G058CD04
, 2G058FB03
, 2G058FB14
, 2G058FB15
, 2G058GA02
, 4H003AC08
, 4H003AC22
, 4H003DA05
, 4H003DA12
, 4H003DB01
, 4H003DC04
